信息來源于:互聯(lián)網(wǎng) 發(fā)布于:2021-12-08
1、進(jìn)行微弧氧化預(yù)處理的原因是,鋁,鐵和其他合金長(zhǎng)時(shí)間放置在空氣中,表面易于氧化,并形成一層微米鈍化膜。同時(shí),表面容易吸附在表面周圍。環(huán)境中的雜質(zhì)形成表面吸附層。為了確保通過微弧氧化制備的陶瓷膜的綜合機(jī)械性能,應(yīng)在微弧氧化處理之前對(duì)樣品表面進(jìn)行預(yù)處理。
2、微弧氧化工藝在微弧氧化工藝中,要氧化的樣品連接到電源的正極,陽極浸入電解液中,不銹鋼電解池作為陽極連接。陰極連接到電源的負(fù)極。電源接通后,正脈沖電壓迅速上升,電流迅速下降。待陽極氧化的樣品開始被陽極氧化,產(chǎn)生大量微小氣泡,并且在樣品表面上形成非常薄的鈍化膜。當(dāng)施加的脈沖電壓超過一定值時(shí),材料表面會(huì)出現(xiàn)非常細(xì)微且均勻的放電火花。這種微火花火花現(xiàn)象發(fā)生在樣品表面的不同位置,陶瓷膜層在要氧化的合金表面上原位生長(zhǎng)。達(dá)到強(qiáng)化材料表面的目的。
微弧氧化是一種在特定的電解質(zhì)和電場(chǎng)條件下在輕金屬中原位生長(zhǎng)陶瓷膜的新技術(shù)。原理是將諸如Al,Mg或Ti的輕金屬或它們的合金作為陽極放置在電解質(zhì)水溶液中,并通過電化學(xué)方法在材料表面上產(chǎn)生火花放電點(diǎn)。熱化學(xué),等離子體化學(xué)和電化學(xué)的作用。用于獲得金屬氧化物陶瓷層的表面改性技術(shù)。
通過微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜與基板冶金結(jié)合,并且膜層致密,并且具有良好的耐磨性和耐腐蝕性。氧化膜的硬度通常可以達(dá)到600-1500HV(膜厚20-50μm),并且耐磨性優(yōu)于硬質(zhì)陽極氧化膜和電鍍硬鉻。密封后的耐鹽霧測(cè)試水平長(zhǎng)達(dá)2000小時(shí)。氧化膜還具有良好的絕緣性,可抵抗500V以上的高壓沖擊,并有效防止電腐蝕。氧化膜還具有良好的隔熱性能,是鋁合金活塞的選擇
氧化膜表面上有許多微孔,大部分是盲孔。該結(jié)構(gòu)的形態(tài)非常有利于后續(xù)的涂覆,這可以使有機(jī)涂層滲透到氧化膜的微孔中形成“錨固效應(yīng)”,從而大大改善了粘結(jié)有機(jī)涂層的力。
微弧氧化處理工藝簡(jiǎn)單,流程短。無需對(duì)工件進(jìn)行復(fù)雜的預(yù)處理,電解質(zhì)成分主要是食品添加劑,無毒,無害且經(jīng)久耐用,在生產(chǎn)過程中無需更換。洗滌廢水可以作為電解質(zhì)加水,處理過程基本無廢水排放。
由電磁波引起的電磁干擾和電磁屏蔽問題已日益突出。另一方面,電磁波已成為新的環(huán)境污染源,僅次于水污染,空氣污染和噪聲污染,成為第四大污染源。電磁輻射是一種無色,無味,無形,無處不在的污染源,具有很高的危害性且難以保護(hù)。電子行業(yè)在各個(gè)領(lǐng)域的迅速發(fā)展所帶來的電磁輻射問題已引起全社會(huì)對(duì)電磁屏蔽的重要性和需求的極大關(guān)注。高性能電磁屏蔽材料和屏蔽結(jié)構(gòu)的研究與開發(fā)已經(jīng)成為世界范圍內(nèi)的重要課題。
為了確保通過微弧氧化制備的陶瓷膜的綜合機(jī)械性能,應(yīng)在微弧氧化處理之前對(duì)樣品表面進(jìn)行預(yù)處理。微弧氧化是一種在特定的電解質(zhì)和電場(chǎng)條件下在輕金屬中原位生長(zhǎng)陶瓷膜的新技術(shù)。通過微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜與基板冶金結(jié)合,并且膜層致密,并且具有良好的耐磨性和耐腐蝕性。微弧氧化處理工藝簡(jiǎn)單,流程短。
下面就由解析微弧氧化有哪些工藝流程吧!為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學(xué)性能,在微弧氧化處理前要對(duì)試樣表面進(jìn)行預(yù)處理。
微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等,是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合,在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用,原位生長(zhǎng)出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。微弧氧化過后,工件可不經(jīng)過任何處理直接使用,也可進(jìn)行封閉,電泳,拋光等后續(xù)處理。
鋁合金微弧氧化又稱等離子體微弧氧化,等離子體陶瓷化或火花放電沉積技術(shù)。為此微弧氧化膜的硬度和耐磨性都得到明顯提高,其耐腐蝕性和電絕緣性也隨之有較大的提高。在微弧氧化過程中,化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時(shí)存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜,至今還沒有一個(gè)合理的模型能全面描述陶瓷層的形成。經(jīng)測(cè)試,微弧氧化膜的最大厚度可達(dá)到200-300μm。
由于表面氧化膜具有較高的孔隙率和吸附性能,它很容易受到污染,所以陽極氧化后,應(yīng)對(duì)膜層進(jìn)行封閉處理,以提高膜層的耐蝕性,耐磨性以及絕緣性。常用的封閉方法有:。故可認(rèn)為是填充及水化雙重封閉作用。通常使用的封閉溶液是5~10%的重鉻酸鹽水溶液,操作溫度為90~95℃,封閉時(shí)間為30分鐘,溶液中不得有氯化物或硫酸鹽。
微弧氧化(MAO)也被稱為等離子體電解氧化( PEO),是從陽極氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的,形成的涂層優(yōu)于陽極氧化.微弧氧化工藝主要是依靠電解液與電參數(shù)的匹配調(diào)節(jié),在弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用下,于鋁,鎂,鈦等.
微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域,克服了硬質(zhì)陽極氧化的缺陷,極大地提高了膜層的綜合性能.微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,韌性高,具有良好的耐磨,耐腐蝕,耐高溫沖擊和電絕緣等特性.
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