信息來源于:互聯(lián)網(wǎng) 發(fā)布于:2021-12-25
微弧氧化又稱微等離子體氧化或陽極火花沉積,是一種將鋁、鈦、鎂等有色金屬或其合金置于特殊的電解液中,通過微等離子體放電,鋁合金型材直接在金屬或合金表面原位生長陶瓷膜的新技術(shù).它是在陽極氧化的基礎(chǔ)上建立起來的一種新方法.
一般認(rèn)為,微弧氧化過程經(jīng)過四個(gè)階段.
(1)陽極氧化階段
將樣品置于一定的電解液中,通電后,樣品表面和陰極表面出現(xiàn)無數(shù)細(xì)小均勻的白色氣泡,而且隨電壓升高,氣泡逐漸變大變密,生成速率也不斷加快.在達(dá)到擊穿電壓之前,這種現(xiàn)象一直存在,這一階段就是陽極氧化階段.
(2)火花放電階段
當(dāng)施加到樣品的電壓達(dá)到擊穿電壓時(shí),樣品表面開始出現(xiàn)無數(shù)細(xì)小、亮度較低的火花點(diǎn).這些火花點(diǎn)密度不高,無爆鳴聲.在該階段,樣品表面開始形成陶瓷層,但陶瓷層的生長速率很小,硬度和致密度較低,所以應(yīng)盡量減少這一階段的時(shí)間.
(3)微弧氧化階段
鋁合金型材
進(jìn)入火花放電階段后,隨著電壓繼續(xù)升高,火花逐漸變大變亮,密度增加.隨后,樣品表面開始均勻地出現(xiàn)放電弧斑.弧斑較大,密度較高,隨電流密度的增加而變亮,并伴有強(qiáng)烈的爆鳴聲,此時(shí)即進(jìn)入微弧氧化階段.
(4)熄弧階段
微弧氧化階段末期,電壓達(dá)到最大值,陶瓷層的生長將出現(xiàn)兩種趨勢.一種是樣品表面的弧點(diǎn)越來越疏并最終消失,鋁合金型材表面只有少量的細(xì)碎火花,這些火花最終消失,爆鳴聲停止.另一種是表面只有少量的細(xì)碎火花,這些火花最終會完全消失,同時(shí)其他一個(gè)或幾個(gè)部位突然出現(xiàn)較大的弧斑.這些較大的弧斑光亮刺眼,可以長時(shí)間保持不動,并且產(chǎn)生大量氣體,爆鳴聲增加.
微弧氧化又稱微等離子體氧化或陽極火花沉積,是一種將鋁、鈦、鎂等有色金屬或其合金置于特殊的電解液中,通過微等離子體放電,鋁合金型材直接在金屬或合金表面原位生長陶瓷膜的新技術(shù).它是在陽極氧化的基礎(chǔ)上建立起來的一種新方法.一般認(rèn)為,微弧氧化過程經(jīng)過四個(gè)階段.
隨著現(xiàn)代經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,人們對鋁材料的抗腐蝕、高強(qiáng)度和高硬度等性能提出了更高的要求。為此,人們常采用陽極氧化、電鍍和微弧氧化等技術(shù)對鋁合金進(jìn)行表面處理以達(dá)到使用要求。將有色金屬及其合金放入電解質(zhì)溶液中作為陽極進(jìn)行通電處理,在外加電場作用下,在材料的表面形成一層氧化膜的過程稱陽極氧化。微弧氧化突破了傳統(tǒng)的陽極氧化電流、電壓法拉第區(qū)域的限制,把陽極電位由幾十伏提高到幾百伏,氧化電流也從小電流發(fā)展到大電流,由直流發(fā)展到交流,致使在樣品表面上出現(xiàn)電暈、輝光、微弧放電、甚至火花放電等現(xiàn)象。
微弧氧化技術(shù)具有很多優(yōu)點(diǎn),如工藝簡單、不引入有毒物,符合當(dāng)今清潔生產(chǎn)發(fā)展的要求,對要處理的零件形狀沒有特殊要求,特別是對異型零件、孔洞、焊縫的可加工能力強(qiáng)于其他表面陶瓷化工藝,因此微弧氧化技術(shù)在軍工、航空、航天、鐵路、機(jī)械、紡織、汽車、醫(yī)療、電子、裝飾等許多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景
鋁陽極氧化和不氧化相信從事這個(gè)行業(yè)的人都清楚,那你清楚鋁陽極氧化和不氧化的區(qū)別嗎?下面跟隨小編來具體了解一下。不氧化的鋁放在空氣中很容易被腐蝕掉,從而出現(xiàn)黃斑或者黑斑,而氧化的產(chǎn)品長時(shí)間放在空氣中不會出現(xiàn)這種現(xiàn)象。還有,鋁和酸堿反應(yīng)時(shí)可以放出氫氣,鋁陽極氧化后就沒氣體。
想要陽極氧化效果好必須正常操作,不管那個(gè)細(xì)節(jié)都需要注意。為了順利進(jìn)行,下面為大家說一下陽極氧化處理注意事項(xiàng)。檢查管路,排出故障后,再接通電源工作。
鋁鎂鈦是比較常見的金屬,那鋁鎂鈦金屬表現(xiàn)處理加工擁有那些特點(diǎn)呢?針對這個(gè)問題,鴻信廠家為大家做出了以下介紹。
微弧氧化(Microarc oxidation,MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation,MPO),是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合,在鋁,鎂,鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用,生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層.
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