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微弧氧化(Microarc oxidation，MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation, MPO)，是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。

微弧氧化(Microarc oxidation，MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation, MPO)，是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜,至今還沒有一個合理的模型能全面描述陶瓷層的形成。

所需設(shè)備：
1、輸入電源：
采用三相380V電壓。

2、微弧氧化電源
因電壓要求較高(一般在，300—700V之間)，需專門定制。通常配備硅變壓器。
電源輸出電壓：0—750V可調(diào)
電源輸出最大電流：5A、10A、30A、50A、100A等可選。

3、微弧氧化槽及配套設(shè)施
槽體可選用PP、PVC等材質(zhì)，外套不銹鋼加固?？赏饧永鋮s設(shè)施或配冷卻內(nèi)膽。

4、掛具及陰極材料
掛具可選用鋁或鋁合金材質(zhì)，陰極材料選用不溶性金屬材料，推薦不銹鋼。

微弧氧化槽液：
微弧氧化主要針對鋁、鎂、鈦、鋯、鈮、鉈等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬）。微弧氧化處理可在酸性和堿性電解液中進(jìn)行，但由于酸性電解液對環(huán)境污染性較大現(xiàn)已較少使用。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等，在單一或者它們的復(fù)合電解液中，增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等，以達(dá)到提高膜層生長速率和致密性等或者功能性膜層的目的。微弧氧化處理應(yīng)根據(jù)基體材料的種類選用合適的電解液體系。

1.氧化液密度：不同液體有不同比重，大體比重在1.0—1.1不等。
2.氧化液工作電壓：300V—750V。
3.電流密度：液體不同，工件電流密度不同。大體約：每平方分米0.01—0.1安培。但也有大電流情況出現(xiàn)，且超過每平方分米8安培。
4.微弧氧化時間：10—60分鐘，時間越長，膜層越致密，但粗糙度也增加。
5.液體酸堿度：堿性，PH通常為8—13
6.微弧氧化工藝流程：
去油 ---- 水洗 ---- 微弧氧化 ---- 純水洗 ---- 封閉